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    第619章 下一代光源的抉择(第 4/4 页)

    当然，对于如何跨越193nm，除了euv之外，也有其他的方案。譬如尼康和svg就在准备攻克157nm的hef2激光，以及电子束投射(epl)，离子投射(ipl)、甚至x光等等……

    总之，就是解决的办法一箩筐，放眼望去全是路。

    但具体哪一条是真正的正道，谁也不知道。

    嗯，只有苏远山一个人知道。

    因为这些方案，都败给了眼前这个乐呵呵的老爷子。

    “林叔，赵叔，193nm之后你们的想法是什么？”坐到沙发上，苏远山端起茶杯抿了一口。

    赵凯东和林本坚对视了一眼，随后笑着道：“193nm看样子都要停留很久，你这么着急？”

    “我本来是不着急的。”苏远山很坦白：“主要是老美那边搞euv，搞得我有点心慌。”

    赵凯东便笑着摇了摇头：“虽然说光源要比光刻机领先很多，但193nm的光源现在都尚未用在光刻机上，你心慌也没用。”

    “至于说下一代光源，其实我和老林并不十分看好157nm，因为hef2激光可以说要完全推翻现有的光路系统，非但物镜要重新搞，光刻胶也要重新研制……最主要的是，波长步进提升不大，且投入产出比太高了。”

    “euv，听起来很不错，有点下一代光源的意思。但你看euv联盟那架势……就不是我们这个小作坊能够完成的。”

    苏远山便笑道：“有您二位在，咱们这实验室可不是小作坊。”

    “呵呵，不管是不是，但设计师不是有句话吗？摸着石头过河……既然前面有人趟路了，那我们也干脆摸着石头过河就行了。”赵凯东笑道：“intel不是拉了那么多企业吗？你也可以拉一个嘛。”

    苏远山：“……”

    他算是听明白了，赵凯东的意思是，让他也搞个euv联盟。

    苏远山倒是想搞，可现在要是搞的话，那就不是远芯主导，而是所有人给霓国人打工。

    于是他便望向林本坚。

    “林叔？你有什么妙招没有？”

    （注：虽然有点枯燥，但……总归还是得写。。。）