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    第三百六十九章 新工艺(第 2/3 页)

    未来三星、台积电所谓的10纳米/7纳米/5纳米，其实存在一种偷换概念的工艺，而英特尔由于没有代工业务，也懒得去理睬他们的“新工艺”。

    其实在三星、台积电、英特尔三家生产的cpu，在性能上的对比，甚至还是英特尔更胜一筹。

    为什么三星、台积电的5纳米，还干不过英特尔的12纳米?

    这就是双方不同的工艺标准，导致英特尔和三星、台积电看似存在差距，实际上，是三星、台积电在标准上搞的鬼。

    光刻法的极限工艺，就在12纳米附近，毕竟光刻要靠深紫外光和蚀刻，这是紫外光的物理性质决定的。

    而纺织法的极限，取决于纳米线的横截直径，理论上单原子的纳米线，横截直径在0.5纳米左右。

    不过黄修远明白，0.5纳米的芯片工艺，现阶段基本不可能实现，单单是一个量子隧穿效应，就足以让芯片报废。

    为什么人类要追求更加小的芯片工艺?

    答案是能耗。

    更加精细的晶体管，可以有效的降低芯片的能耗。

    如果单纯的追求运算力的提升，其实可以采用超算的刀片服务器搭建方式，不断增加芯片的数量。

    在商业应用上，运算力虽然是一个大指标，但是真正的核心因素，是单位运算力的能耗，即我们常说的能效比。

    假如，有甲乙两款芯片，其浮点运算力都是每秒10亿次，甲芯片采用28纳米工艺，而乙芯片采用22纳米工艺，两者的单位能耗是，通常是甲高于乙。

    或许个人用户感觉不明显，但是那些互联网大厂，一年要付几亿乃至几十亿电费，就不得不考虑能耗问题了。

    这就是为什么，璃龙1诞生后，各大互联网公司不得不采购的原因之一，其中就有能耗的考虑。

    黄修远看着眼前的芯片纺织机，12纳米工艺虽然可以生产芯片，但是速度却下降得厉害，平均每秒只能加工两三千个晶体管。

    比起速度惊人的缁衣—1、缁衣—2，缁衣—4的速度明显太低了。

    “修远，我打算将第二半导体实验室的立体工艺引入12纳米工艺上，你怎么看?”陆学东提议道。

    放下手上的圆珠笔，黄修远思考了一会：“第二半导体实验室的立体工艺，应该没有成熟吧?”

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