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    第573章 光刻技术探讨(第 3/3 页)

    所谓晶元或者芯片，就是将原本要实现某个产品功能的无数元器件，通过技术集中到了一起的产品。

    虽说将无数元器件的功能集中在一起，实实现了更小更轻，功能更多的目标……

    但想要让它发挥作用，却依旧要靠电路来完成。

    所谓光刻，就是在这或许指甲盖大，但融合了几十几百甚至几千个电子元件功能的模块中刻画电路，从而让其发挥作用的过程。

    单个器件集成的电子元器件越多，能耗越小，最终形成的产品便能越小越轻便，也越能拥有更多的功能——而想要达到这样的目的，就得更尖端的光刻机。

    毕竟只有纳米数越小的光刻机，才能在同等体积的芯片或者是晶元上堆叠更多链接电子元器件，并极大的降低能耗。（芯片和晶元中的线路不是平面的，而是靠堆叠来完成。）

    光刻机一帮是由光源，均匀照明系统、投影物镜系统、机械及控制系统(包括工件台、掩膜台、硅片传输系统等构成。

    按照张学东冯长宇祁同文等人的说法，国产光刻机，比如已经交付华芯进行使用的分步式光刻机，虽说对比国外最先进产品，在技术方面依旧有差距，不过这个差距并不是太大，更不存在代差……

    毕竟大家都采用的都是同等理念，分步式投影。

    唯一的差别，或许也就是光源了。

    听到此处，从头到尾一直都没怎么说话的光学投影专家，长光所的龚建亮终于开口了。

    他表示长光所在最近的研究中有一些心得，表示经过研究，如果能用放电汞灯辐射紫外光，应该有希望进一步的降低光源波长，将现在正在应用的高压放电汞灯的光源从极限的365纳米，成功降低到250纳米！

    “这是真的吗？”

    听到这话，无论是张学东任继宪还是冯长宇都兴奋不已，同时也有些悻悻，埋怨龚建亮怎么不早说……

    毕竟近年虽然已经传出西方在光刻机方面的研究，其实已经早就突破了微米级，已经在向纳米级发展，但终究还没有实际产品出来。

    要长光所能早点告诉大家这个成果，自己尽早将其进行在光刻机上应用，国产光刻机的技术指标那可就能和西方最先进光刻机的技术指标并驾齐驱了！

    虽然只是暂时性的，但总算是追上过不是？