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    第574章 阶段性研发目标(第 4/4 页)

    这，就是在场一众听到杨明提出的阶段目标时心里的想法。

    对于众人可能在心底的鄙视，杨明并不在意。

    毕竟自己是光刻方面的小白这点，那是事实。

    但要说他提出的这要求是不遵循科学的基本规律，那可就大错特错了。

    毕竟曾经，他可也算是被尖端芯片被卡脖子的受害者之一。

    也是因此，在被卡脖子之时，他曾经深入的了解过整个光刻机的发展过程，所以对光刻机的发展史，他可真是了如指掌。

    根据他的记忆，别看现在西方所曝光出来的研发进程，他们的光刻机依旧如张学东冯长宇所言，也还停留在微米阶段。

    但事实上，现在西方的研究，其实已经将光刻的精度达到了纳米级！

    而所采用的手段，就是准本子深紫外波段光源！

    也就是说，就在当下，利用准分子深紫外激光制造纳米级芯片的技术，其实已经成熟。

    在场一众之所以不理解，并非是他们的底蕴不够，只是因为不了解而已！

    在这种情况下，他不让众人跳过电汞灯辐射紫外光这种落后技术，而是直接研究当下最先进的准分子激光，更待何时？

    事实上，如果不是知道跳级这种事，可以玩从一年级跳到三年级，但绝对没法从一年级直接跳到大学这点，杨明怕是直接都得让众人直接从浸没式光刻技术开始研发，然后再直接转进到euv技术路线的光刻机了……

    也是因此，看着众人那你个外行出钱可以，但真的研发的话，你还是少外行指挥内行的表情，杨明微微一笑，然后侃侃而谈！